半导体哪一工艺环节最有前景
2015-09-27 分类：百科
TIPS：本文共有 175 个字，阅读大概需要 1 分钟。
目前最有前景的半导体工艺环节便是二硫化钼（MoS2）。
硅和二硫化钼（MoS2）都有晶体结构，但是，二硫化钼对于控制电子的能力要强于硅，众所周知，晶体管由源极，漏极和栅极，栅极负责电子的流向，它是起开关作用，在1nm的时候，栅极已经很难发挥其作用了，而通过二硫化钼，则会解决这个问题，而且，二硫化钼的介电常数非常低，可以将栅极压缩到1nm完全没有问题。
小编精心整理的这篇内容：半导体哪一工艺环节最有前景，如果你看到此处请一定要收藏哦！
阅读剩余内容