光学平面镀膜有哪些

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氟化镁材料特点：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

二氧化硅材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si0₂镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

氧化锆材料特点 白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高

光学平面镀膜有哪些

常见镀膜种类包含增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，金属加强膜，金属导电膜，透明导电膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。根据产品需求可进行膜层选择。常见选用的镀膜材料一般是氟化镁、二氧化硅、氧化锆等

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。这些涂层可以显着改变光学元件的达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。

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